我的重返人生 第1053章

作者:偷名

  方年解释了一句:“因为研发成果的优越性,无论前沿做了什么,都显得太白。”

  “以及,容易被理所当然。”

  “这些显然都不利于前沿的发展。”

  末了,方年淡声道:“我可不是无私的人。”

  众人恍然。

  温叶更是吐了吐舌头:“我的我的,我段位不够。”

  “……”

  大家笑了笑。

  方年喝了几口茶,忽然望向刘惜:“刘惜,你得多辛苦辛苦,想办法提高内部资金落地效率。”

  “明白。”刘惜点点头。

  “……”

  …………

  …………

  次日,周末。

  早上六点二十分,关字号飞机从浦东机场起飞,去往长春。

  关秋荷协调了其它行程,腾出来时间跟着去了长春。

  反正这趟出差大家都明白是早出晚归。

  九点三十分,方年一行抵达了位于长光所旁边的梼杌半导体设备实验室。

  梼杌成立至今已有三个多月。

  发展还是蛮顺利的,现有研发人员210人,行政人员30多。

  之所以说顺利,是因为研发人员全员硕士起步,完全挂职院士一人,客座院士数人,客座教授二十多位。

  算是沾了长光所的光。

  当然,更主要的是一开始靠着陈建业院士的面子,一拉二,二拉三四五,几乎搜刮了东北这地儿有数的相关领域领军人物。

  “……”

  梼杌实验室行政主管、研发主任王院士,以及几个高管迎了出来。

  行政主管满面笑容道:“欢迎方总前来梼杌视察指导工作。”

  “你们好,王院士好。”方年微微笑道。

  举止间的气态一下让人忽略了方年的年纪。

  全然没有那种懒散的学生模样。

  方年做了个手势:“还请几位带我参观一二。”

  “好的好的,您请。”行政主管不由换上了尊称。

  “……”

  梼杌实验室办公室面积不算小,虽然不到300人,但占了一栋小高层写字楼共三层的地方。

  总面积过万平方。

  每层都设有精密仪器间等。

  沿用了女娲实验室那方成熟的出入管理制度,保密工作很到位。

  一圈看下来,方年满意的表扬了几句:“井然有序,各位辛苦。”

  “……”

  然后在会议室听取了行政主管和王院士的工作汇报。

  梼杌这边是最没有技术积累的实验室,所有初始技术资料都来源于前沿学术。

  工作模块虽然划分得当,却不足够量化,以至于进展并不乐观。

  严格说来是全国七个实验室进展倒数第二的。

  倒数第一当然是上个月才成立的盘古实验室。

  后五个实验室,研发工作进展最顺利的并不是朱厌,而是长安的饕餮。

  真可谓是名副其实的贪婪。

  不过也是当初成立之前协调得当,开局就是27家高校联合合作框架协议。

  所以时有突破。

  不过硬要说的话,其实包含女娲、白泽在内的全部实验室里进展最快的是胜遇。

  只不过是表面以下的胜遇。

  而且胜遇走了一条比较‘脏’的道路,因为胜遇的基础技术积累其实是前沿学术等最重视的部分;

  有国内外的各类技术授权积累。

  实验室成员7成以上是博士,国内国外毕业的都有。

  就说一个事情,胜遇已经申请了数千项通信标准专利,多数是5G方面的。

  但是基本没交专利费。

  是占专利名额,利用专利法申请不交费废止来做滚动性保护。

  这样既可以占优先权,又可以不公开,通过一次又一次新的申请更新优先权延长专利保护期。

  算是某种基操。

  有意思的是,胜遇实验室的研究并不怎么花钱,除了技术储备和基础研发环境支出外,最大头的支出居然是研发人员的薪资……

  听完汇报,脑子里也开完小差的方总想了想,道:“下午召开一次联合会议,需要有长光所等一些合作单位的参与。”

  “我来协调。”行政主管连道。

  “我会帮忙。”王院士跟着说道。

  “……”

  午后两点,长光所副所长张学君等人,大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。

  方年坐在居中位置。

  神态轻松自如。

  令人不敢忽视。

  张学君也想起了两年多前的那次会面,实在没想到再见面时会是这样的光景。

  方年目光扫过与会众人:“各位下午好,我是方年,初次见面,请多关照。”

  “方总好。”

  “方总太客气了。”

  “……”

  简单的寒暄过后,方年直截了当道:“恕我冒昧,为了不耽误大家更多的时间,我就开门见山了。”

  “庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线,为了配合这条测试线,梼杌这边将全面进军EUV光刻研究,希望大家能给予必要支持。”

  此话一出,众人皆愣。

  包括梼杌的王院士。

  “EUV?”张学君挑了下眉,斟酌着说道,“方总,冒昧问一句,你好像对极紫外情有独钟?”

  “理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻,DUV(深紫外)借住浸入式方案理论上可以做到7nm光刻,似乎没必要全面进军EUV?”

  “……”

  在座众人都是懂行人士,纷纷发表了各自的看法。

  比如DUV技术积累等等问题。

  毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对:

  集成电路前道制造光刻机。

  光刻机其实是个泛称,内里可细分为前道制造、后道封装、应用于TFT(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。

  一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……

  听着大家的不同意见,方年微微一笑:“DUV不是有各位在努力吗?”

  “前沿不能白叫前沿这个名字,而且EUV这个领域基本上属于赢家通吃,很符合前沿的目标。”

  王院士立马道:“可是ASML的EUV实验机去年就运到了台积电使用。”

  “……”

  “这个领域需要很庞大的投入。”

  “……”

  方年当然知道。

  他更清楚的是,全球范围内EUV光刻机的差距其实不太大。

  要么就是没想过,要么就是放弃了。

  唯一一家至死不渝坚持到底的是ASML。

  有意思的是,最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。

  当然,ASML快得很,06年开始投入,去年推出了首台EUV工程原型机,而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。

  但……

  ASML很缺钱,方年曾看过的所有与ASML有关的媒体报道都提到了ASML在2012年7月份发起的客户联合投资计划。

  这份计划募集了超过50亿欧元的资金,其中一半用于EUV光刻研发。

  且因为始终未实现EUV光刻机的大规模量产,以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了股份。

  钱这东西,前沿也缺。

  但前沿在某种意义上可以不缺钱……

  等众人讨论完,方年淡然道:“前沿计划今年内首批投入10亿美元,包括但不限于面向全球收购相关企业、专利授权、研发投入;

  明年起的三年内前沿一家的年平均纯研发投入不低于50亿人民币,后续视情况递增。”

  会议室为之一静。

  方年继续说道:“其次,梼杌会牵头促成一个大的泛技术联合投资管理单元,梼杌只承担其中一部分研发工作和大头资金投入,每个单位做自己最擅长的事情;

  比如长光所在光相关工作上努力,比如上微电来做总成。”

  “协调前沿来搞定,包括其他单位的出资力度等,各位考虑一二给个答复。”

  张学君:“……”

  “……”

  最后有人弱弱的道:“那DUV呢?”

  闻言,方年眼皮微动,面带微笑:“差点忘了,庐州前沿需要一台国产的高精度DUV光刻机来进行实验,最好是实验室产品,各位帮帮忙?”

  “……”

  张学君斟酌着接过话头:“忙可以帮,有个实验室有台很不好用的90nm DUV光刻机可以免费借给前沿用;

  不过……”

  “我听闻国外有些个企业啊,喜欢列出几百上千项难题,然后督促科学家不停努力……”

  张学君话还没说完,方年笑着望了过去,打断道:“看样子张所消息很灵通啊,对我们前沿内部的一些作风都有了解。”

  “其实前沿一般还会拿‘小鞭子’,我想白泽实验室那边会很期待与各位一同加油。”

  “……”

  张学君:“……”